電子工業用氣體統稱為電子氣。在大規模集成電路、超大規模集成電路半導體和電子器件生產與加工過程中，電子氣主要用于氣相外延生長、化學氣相淀積、摻雜（雜質擴散）、蝕刻、離子注入、濺射、退火、系統加壓、潔凈吹掃、吸氣覆蓋、氧化和還原等工藝。其中部分氣體直接作為半導體源，如硅源、硼源、磷源和CVD源等等。

        眾所周知，電子氣體是半導體工業、微電子工業重要的且必不可少的基礎材料，隨著半導體工業和微電子工業的迅猛發展，對電子氣體的品種、數量、質量及純度提出了較高的要求。目前，我國電子氣體的品種、數量和質量與發達國家相比，尚有較大差距，因此盡快發展和振興我國的電子氣體，它具有十分重要而深遠的戰略意義。

        為電子工業服務的電子氣體品種繁多，用途五花八門，它的分類方法亦較為復雜。一般可按電子氣的組成來分類，也可以按電子氣的用途分類。按電子氣的組成分類，電子氣體大致可分為三大類，即單質類氣體、化合物類氣體和混合物類氣體；根據電子氣體的不同用途，電子氣體可分為十多類，例如晶體生長氣、熱氧化氣、外延氣、摻雜氣、擴散氣、化學氣相淀積氣、噴射氣、離子注入氣、等離子蝕刻氣、載氣/吹洗氣、光刻氣、退火氣、焊接氣、燒結氣和平衡氣等。